Артикул:
FEIApreo
Цена по запросу
Варианты цен
Цена по запросу
Под заказ
В корзину
Купить в 1 клик
Сканирующий электронный микроскоп Apreo - высокопроизводительная платформа для исследования наночастиц, катализаторов, порошков и наноустройств, в том числе, для работы с магнитными образцами. Традиционные сканирующие электронные микроскопы высокого разрешения обладают либо электростатическими линзами, либо с магнитной иммерсией. Впервые FEI объединяет оба способа в одном инструменте.
Преимущества данной компоновки выходят далеко за рамки производительности любой другой колонны. И тот и другой метод служит для формирования пучка в тонкий зонд для получения изображения при низких ускоряющих напряжениях и направления детектируемых электронов обратно через линзу в колонну. За счет комбинации магнитной и электростатической иммерсии в одной электронной пушке достигается более высокая разрешающая способность и добавляются уникальные возможности для фильтрации сигнала. Комбинированная электростатически-магнитная конечная линза обеспечивает разрешение 1,0 нм при 1 кВ (без активации функции замедления пучка или монохроматора).
Преимущества данной компоновки выходят далеко за рамки производительности любой другой колонны. И тот и другой метод служит для формирования пучка в тонкий зонд для получения изображения при низких ускоряющих напряжениях и направления детектируемых электронов обратно через линзу в колонну. За счет комбинации магнитной и электростатической иммерсии в одной электронной пушке достигается более высокая разрешающая способность и добавляются уникальные возможности для фильтрации сигнала. Комбинированная электростатически-магнитная конечная линза обеспечивает разрешение 1,0 нм при 1 кВ (без активации функции замедления пучка или монохроматора).
| Особенности |
• Электронная колонна высокого разрешения с полевой эмиссией Шоттки, включает: - Высокостабильный источник полевой эмиссии Шоттки обеспечивает стабильные высокие токи в сочетании с высокой разрешающей способностью - Комбинированная конечная линза: сочетание электростатического поля, безполевого магнитного и иммерсионной магнитной объективной линзы. - Угол объективной линзы в 60°: позволяет наклонять большие образцы • Автоматически очищаемые за счет подогрева диафрагмы обеспечивают стабильную работу • Дифференциальная откачка через линзу для низкого вакуума уменьшает расщепление пучка электронов, что увеличивает точность анализа и разрешающую способность. • Функция замедления пучка с диапазоном от -4000 В до +600 В • Непрерывный контроль тока пучка и оптимизированный угол раскрытия конечной линзы • Двухступенчатая технология отклонения пучка • Простота в установке и настройке пушки, техническое обслуживание – авто отжиг пушки, авто старт, отсутствуют механических юстировок. • Гарантированное время жизни источника: 12 месяцев. |
| Характеристики электронной пушки |
• Высокий вакуум с оптимальной рабочей дистанцией, иммерсионный режим - 0,8 нм при 30кВ (STEM) - 0,9 нм при 15 кВ - 1,0 нм при 1 кВ - 1,2 нм при 500 В - 2,5 нм при 100 В • Высокий вакуум с оптимальной рабочей дистанцией, режим без поля - 0,8 нм при 30 кВ (STEM) - 1,0 нм при 15 кВ - 1,3 нм при 1 кВ • В режиме низкого вакуума, оптимальной рабочей дистанцией, режим без поля - 1,2 нм при 15 кВ - 1,8 нм при 3 кВ |
| Предметный столик |
Вцентрический гониометрический высокоточный моторизованный по 5 осям предметный столик Перемещение в плоскости XY: 110 x 110 мм Воспроизводимость результатов: < 3,0 мкм (при наклоне 0°) Моторизованное перемещение по оси Z: 65 мм Поворот: n x 360° Наклон: -15° / +90° Максимальная высота образца: Расстояние 85 мм до точки Вцентрика Максимальный вес образца: 500 г при любом положении предметного столика (до 2 кг при наклоне 0°) Максимальный размер образца: Ø122 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено) • Стандартно поставляется уникальный стол-держатель для различных задач, на который можно установить до 18 стандартных столиков образцов (диам. 12 мм), 3 скошенных стойки, образцы поперечных сечений и 2 наклонных многостоечных держателей* (38° и 90°), при этом не требуется инструментов для установки образцов. • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу |
| Рабочая камера |
• Внутренняя ширина: 340 мм • Аналитическая рабочая дистанция: 10 мм • Установка до трех детекторов EDS, два из которых расположены друг напротив друга (под углом 180°) • Копланарное расположенные (в одной плоскости) EDS/EBSD и осью наклона столика |
| Детекторы |
Apreo может регистрировать до четырех сигналов одновременно из любой комбинации из имеющихся детекторов или сегментов детектора. • Тройная система детектирования (внутрилинзовая и внутри колонны) - Т1 – нижний внутрилинзовый детектор, разделенный на сегменты - Т2 – верхний внутрилинзовый детектор - T3 – внутриколонный детектор • ETD – детектор вторичных электронов Верхарта-Торнли • DBS – выдвижной сегментированный детектор ООЭ • Детектор вторичных электронов для низкого вакуума • DBS-GAD монтирующийся на линзу газовый аналитический детектор ООЭ • STEM 3+ - выдвижной сегментированный детектор для просвечивающей микроскопии (BS, DF, HADF, HAADF) • Инфракрасная камера для контроля положения образца • Nav-Cam+ цветная цифровая камера для простой навигации по образцу |
| Вакуумная система |
• Безмасляная вакуумная система • 1х220 л/с TMP (турбомолекулярный насос) • 1хPVP (форвакуумный насос) • 2 ионно-геттерных насоса • Уровень вакуума в камере (высокий) < 6,3e–6 мбар (после 72 часов откачки) • Время откачки: ≤3,5 мин • Режим низкого вакуума (опционально) • Давление в камере при низком вакууме от 10 до 500 Па • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу |
| Дополнительные аналитические возможности |
• Система очистки образца/камеры: система криогенной чистки FEI Cryocleaner, интегрированная система плазменной чистки FEI • Анализ: EDS, EBSD, WDS, CL, Raman • Система быстрой загрузки образца QuickLoader • Навигация: Навигационная камера, корреляционная навигация, программное обеспечение для сшивки MAPS Газовая инжекционная система (GIS) FEI: до 2 устройств (другие опции могут ограничить количество доступных систем GIS) для осаждения следующих материалов: - Платина - Вольфрам - Углерод • Манипуляторы • Криостолик • Электрическое зондирование • Электростатическая блокировка пучка |
| Управление системой |
• 64-битный графический пользовательский интерфейс на базе Windows 7, клавиатура, оптическая мышь • 24-дюймовый ЖК-монитор, WUXGA 1920 x 1200 (второй монитор – опция • Настраиваемый графический интерфейс с возможностью выбора до 4-х одновременно активных окон • Регистрация изображения • Встроенная навигация • Программное обеспечение для анализа изображения • Функция отмены и повтора (после отмены) действия • Гид пользователя для простых операций/приложений • Джойстик (опционально) • Многофункциональное контрольное устройство управления (опционально) |
| Получение изображений |
• Время получения изображения 0,025 – 25000 мкс/пикс. • Размер до 6144 х 4096 пикс. • Тип файла: TIFF (8, 16, 24 bit), BMP, JPEG • Однокадровое изображение или изображение в четырёх квадрантах • Технология сканирования SmartSCAN (до 256 интегрированных изображений в одном) • DCFI (компенсация дрейфа) |
| Доступные программные функции |
• Система для автоматизированного получения больших изображений и корреляционной работы MAPS • iFast для дополнительно автоматизации • Программное обеспечение для архивации данных в сети • Программное обеспечение для анализа изображений |
| Системные опции |
• Стандартно поставляется держатель для различных задач, уникальный тем, что устанавливается непосредственно на столик, и на него можно установить до 18 стандартных столиков образцов (диам. 12 мм), 3 скошенных стойки, образцы поперечных сечений и 2 наклонных многостоечных держателей* (38° и 90°) • Каждый из наклонных многостоечных держателей может использоваться с 6 S/TEM сетками • Держатель печатных плат и другие держатели по заказу* |
| Требования по установке |
• Электропитание: - напряжение 100 - 240 В (+6%, –10%) - частота 50 или 60 Гц (+/–1 %) - Потребляемая мощность: < 3,0 кВА в базовой комплектации • Сопротивление заземления: < 0,1 Ом • Условия эксплуатации: - температура (20±3) °C - относительная влажность не более 80% (без конденсата) - уровень паразитных ЭМП с переменным напряжением: < 40 нТ асинхронные поля, < 100 нТ синхронные поля • Габариты дверного проёма: 0,9 м (ширина) х 1,9 м (высота) • Вес микроскопа с колонной: 980 кг • Рекомендуется чистый азот для напуска в систему • Сжатый воздух (4 – 6) бар. Должен быть чистый, сухой и не содержать масла. • Система охлаждения - наличие • Уровень шума (требуется обследование места установки) • Вибрация пола (требуется обследование места установки, поскольку должен учитываться спектр частот вибрации) • Виброизоляционный стол поставляется по доп. заказу |
Все покупки на сайте осуществляются с помощью безналичной оплаты.
Все платежи для физических лиц осуществляются через сервис Paykeeper.
Также возможно оформление счета для оплаты от юридического лица (мы работаем с НДС).
Подробная информация на странице «Условия оплаты».
Мы доставляем грузы несколькими транспортными компаниями, подробнее узнать о которых вы можете в разделе «доставка».
Выбрать вариант доставки вы можете при оформлении заказа на сайте, либо связавшись с менеджером
Срок поставки менеджер уточнит после оформления заявки.
FEI Company — американская компания, специализирующаяся в области средств электронной микроскопии.
FEI является ведущей компанией, разрабатывающей научное оборудование, электронные и ионно-лучевые микроскопы и другие инструменты для наномасштабных приложений во многих отраслях промышленности: производственные и научные исследования материалов, науки о жизни, полупроводники, хранение данных, природные ресурсы и многое другое.
Инструменты, выпускаемые FEI, включают технологии ионного и электронного пучков, что позволяют пользователям характеризовать, анализировать и оперировать структурами на менее чем суб-ангстремном уровне.
Компания FEI установила стандарт производительности для просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ), сканирующих электронных микроскопов (СЭМ) и двулучевых микроскопов, которые сочетают в себе СЭМ со сфокусированным пучком ионов (ФИП). Системы визуализации компании FEI обеспечивают 3D-характеризацию, анализ и модификацию / прототипирование с разрешением до субангстремного уровня.
Нужна консультация?
Наши специалисты ответят на любой интересующий вопрос
Задать вопрос
