В корзине пусто

Тел./факс:

Новости

19.06.2018 В Уральском федеральном государственном университете открылась лаборатория Современных телекоммуникационных технологий на базе решений Keysight Technologies

25 мая 2018 Уральский федеральный государственный университет и компания Keysight Technologies объявили об открытии лаборатории Современных телекоммуникационных технологий на базе Института радиоэлектроники и информационных технологий УрФУ.

Ф

 

События

08.05.2018 Leybold. Вакуумное оборудование для лабораторного и промышленного применения

Группа компаний "Научное оборудование" и ООО "Лейфикон Вакуум Сервис", официальный представитель компании Leybold в России, приглашают Вас принять участие в серии семинаров "Leybold. Вакуумное оборудование для лабораторного и промышленного применения", которые пройдут в Новосибирске и Зеленогорске с 14 по 18 мая 2018 года.

Ф Г

 

Подписка

Подпишитесь на новостную рассылку, чтобы быть всегда в курсе последних событий:

 

Двухлучевая система FEI Scios

В микроскопе Scios применяется аналитическая двулучевая технология сверхвысокого разрешения, обеспечивающая выдающиеся эксплуатационные характеристики при двухмерном и трёхмерном анализе широкого диапазона образцов, включая магнитные материалы. Scios позволяет получать изображения высокого разрешения и впечатляющую пропускную способность при выполнении двухмерного и трёхмерного анализа.


Добавить в мои товары

Получив ваш запрос, наш менеджер свяжется с вами для уточнения деталей. Вы также можете связаться с менеджером по телефону: +7 (383) 383-24-06

 

FEI является ведущей компанией, разрабатывающей научное оборудование, электронные и ионно-лучевые микроскопы и другие инструменты для наномасштабных приложений во многих отраслях промышленности: производственные и научные исследования материалов, науки о жизни, полупроводники, хранение данных, природные ресурсы и многое другое.

В микроскопе Scios применяется аналитическая двулучевая технология сверхвысокого разрешения, обеспечивающая выдающиеся эксплуатационные характеристики при двухмерном и трёхмерном анализе широкого диапазона образцов, включая магнитные материалы. Scios позволяет получать изображения высокого разрешения и впечатляющую пропускную способность при выполнении двухмерного и трёхмерного анализа.

Области применения: материаловедение, нанотехнологии.

Основные преимущества:

плотности тока пучка и возможности очистки с низкой энергией

  • Электронная неиммерсионная колонна NICol сверхвысокого разрешения с автоэмиссионной пушкой Шоттки

  • Проверенная разработка компании FEI — ионная колонна Sidewinder™, ускоряющая подготовку образцов благодаря высокой

  • В основе микроскопа Scios лежит усовершенствованная технология внутрилинзового детектирования Trinity, что позволяет одновременно обрабатывать широкий спектр сигналов

  • Высокое разрешение и высококонтрастная обработка изображений - даже при исследовании магнитных материалов

  • Генерирование 3D данных, определение размеров, распределения включений, анализ напряжений и деформаций в металлах

  • Исключительное удобство эксплуатации: высокая степень автоматизации делает микроскоп Scios очень простым в эксплуатации и позволяет уверенно вести исследовательскую работу.

Технические характеристики:

Характеристика

Значение

Электронная оптика

Высокоустойчивая автоэмиссионная пушка Шоттки.
Диапазон тока пучка: от 1 пА до 400 нA

Ионная оптика

Источник ионов на базе жидкого галлия для применения в высоком вакууме.
Ток зонда: от 0,6 пА до 65 нA.

Разрешение в электронах

  1,0 нм при 15 кэВ
  1,6 нм при 1 кэВ

Разрешение в ионах

5 нм

Ускоряющее напряжение

Электроны - от 350 эВ до 30 кэВ
Ионы - от 500 В до 30 кВ

Диапазон энергий электронов у поверхности образца (режим торможения пучка)

от 20 В до 30 кВ

Ширина камеры

379 мм

Количество портов

21

Столик:

- Тип

Эвцентрический гониометрический столик, 5-осевой моторизованный

- Ход по осям X и Y

110 х 110 мм

- Воспроизводимость результатов по осям X и Y

< 2,0 мкм (при наклоне 0°)

- Ход по оси Z

65 мм

- Поворот

n x 360°

- Наклон

-15° …+90°

Максимальная высота образца

Расстояние 85 мм до эвцентрической точки

Максимальный вес образца

500 г при любом положении предметного столика (до 2 кг при наклоне 0°)

Максимальный размер образца

150 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено)